Rapidus公司计划在日本工厂安装10台EUV光刻机，以2027年起量产2纳米级别芯片。首台EUV光刻设备已于2024年12月抵达日本。 Rapidus预计2025年4月在IIM-1开始2纳米试生产，6月向博通交付样品，2027年正式量产。