昨天在朋友圈刷到这张图，一看好有意思。就针对这张图，我们边学半导体设备专用单词边科普工艺。感谢咔嚓，晶媛，维族女婿，老杨，关老师（半导体综研），天天改简历的河哥，又帅又飒的八妹，以及“爱芯片，爱生活，赚大钱”神仙大佬群友的给与的行业专业知识支持。这张 ...

Multi-Patterning（多重光刻）：随着集成电路特征尺寸的不断缩小，单次光刻技术逐渐无法满足更高精度的要求，因此发展出了多重光刻技术。多重光刻技术需要多次光刻和刻蚀步骤来创建更小的特征尺寸。

TSMC delivered more optimistic outlook following the financial results. It now expects revenue for the year 2024 to grow ...

但近期他们通过推出纳米压印光刻装置（nanoimprint lithography），成功夺回了在尖端封装用途市场的主导地位。这一技术突破使佳能再次站在了微细化 ...

电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。电子束光刻系统(EBL)即用于实现电子束曝光的 ...